所屬分類： SCIE 期刊 工程技術(shù) 中科院 4區(qū) JCR Q4
國(guó)際應(yīng)用電磁學(xué)與力學(xué)雜志
國(guó)際應(yīng)用電磁學(xué)與力學(xué)雜志雜志簡(jiǎn)介
- 出版商：IOS Press
- 出版語言：English
- TOP期刊：否
- 出版地區(qū)：NETHERLANDS
- 是否預(yù)警：否
- 是否OA：未開放
- 出版周期：Quarterly
- 出版年份：1995
- 中文名稱：國(guó)際應(yīng)用電磁學(xué)與力學(xué)雜志
- 是否OA：未開放
國(guó)際應(yīng)用電磁學(xué)與力學(xué)雜志（國(guó)際簡(jiǎn)稱INT J APPL ELECTROM，英文名稱International Journal Of Applied Electromagnetics And Mechanics）是一本未開放獲?。∣A）國(guó)際期刊，自1995年創(chuàng)刊以來，始終站在工程技術(shù)研究的前沿。該期刊致力于發(fā)表在工程技術(shù)領(lǐng)域各個(gè)方面達(dá)到最高科學(xué)標(biāo)準(zhǔn)和具有重要性的研究成果。全面反映該學(xué)科的發(fā)展趨勢(shì)，為工程技術(shù)事業(yè)的進(jìn)步提供了有力的支撐。期刊嚴(yán)格遵循職業(yè)道德標(biāo)準(zhǔn)，對(duì)于任何形式的抄襲行為，無論是文字還是圖形，一旦查實(shí)，均可能導(dǎo)致稿件被拒絕。
在過去幾年中，該期刊保持了穩(wěn)定的發(fā)文量和綜述量，具體數(shù)據(jù)如下：
2014年：發(fā)表文章259篇、2015年：發(fā)表文章192篇、2016年：發(fā)表文章313篇、2017年：發(fā)表文章206篇、2018年：發(fā)表文章155篇、2019年：發(fā)表文章290篇、2020年：發(fā)表文章318篇、2021年：發(fā)表文章119篇、2022年：發(fā)表文章99篇、2023年：發(fā)表文章136篇。這些數(shù)據(jù)反映了期刊在全球工程技術(shù)領(lǐng)域的影響力和活躍度，同時(shí)也展示了其作為學(xué)術(shù)界和工業(yè)界研究人員首選資源的地位。《International Journal Of Applied Electromagnetics And Mechanics》將繼續(xù)致力于推動(dòng)工程技術(shù)領(lǐng)域的知識(shí)傳播和科學(xué)進(jìn)步，為全球工程技術(shù)問題的解決貢獻(xiàn)力量。
期刊指數(shù)
- 影響因子：1.1
- Gold OA文章占比：0.85%
- CiteScore：1.7
- 年發(fā)文量：136
- 開源占比：0.0056
- SJR指數(shù)：0.222
- H-index：26
- SNIP指數(shù)：0.401
WOS期刊SCI分區(qū)（2023-2024年最新版）
| 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q4 | 278 / 352 |
21.2% |
| 學(xué)科：MECHANICS | SCIE | Q4 | 137 / 170 |
19.7% |
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q4 | 152 / 179 |
15.4% |
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q4 | 319 / 354 |
10.03% |
| 學(xué)科：MECHANICS | SCIE | Q4 | 152 / 170 |
10.88% |
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q4 | 164 / 179 |
8.66% |
中科院分區(qū)表
中科院SCI期刊分區(qū) 2023年12月升級(jí)版
| Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學(xué)科 | 小類學(xué)科 |
| 否 | 否 | 工程技術(shù) 4區(qū) |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程：電子與電氣
MECHANICS
力學(xué)
PHYSICS, APPLIED
物理：應(yīng)用
4區(qū)
4區(qū)
4區(qū)
|
CiteScore（2024年最新版）
CiteScore 排名
| CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore 排名 | ||||||||||||||||||||||||
| 1.7 | 0.222 | 0.401 |
|
學(xué)術(shù)指標(biāo)分析
影響因子和CiteScore
自引率
影響因子：指某一期刊的文章在特定年份或時(shí)期被引用的頻率，是衡量學(xué)術(shù)期刊影響力的一個(gè)重要指標(biāo)。影響因子越高，代表著期刊的影響力越大 。
CiteScore：該值越高，代表該期刊的論文受到更多其他學(xué)者的引用，因此該期刊的影響力也越高。
自引率：是衡量期刊質(zhì)量和影響力的重要指標(biāo)之一。通過計(jì)算期刊被自身引用的次數(shù)與總被引次數(shù)的比例，可以反映期刊對(duì)于自身研究?jī)?nèi)容的重視程度以及內(nèi)部引用的情況。
年發(fā)文量：是衡量期刊活躍度和研究產(chǎn)出能力的重要指標(biāo)，年發(fā)文量較多的期刊可能擁有更廣泛的讀者群體和更高的學(xué)術(shù)聲譽(yù)，從而吸引更多的優(yōu)質(zhì)稿件。
期刊互引關(guān)系
| 序號(hào) | 引用他刊情況 | 引用次數(shù) |
| 1 | IEEE T MAGN | 529 |
| 2 | INT J APPL ELECTROM | 331 |
| 3 | J MAGN MAGN MATER | 101 |
| 4 | IEEE T IND ELECTRON | 94 |
| 5 | IEEE T IND APPL | 90 |
| 6 | NDT&E INT | 85 |
| 7 | J APPL PHYS | 79 |
| 8 | SMART MATER STRUCT | 70 |
| 9 | SENSOR ACTUAT A-PHYS | 42 |
| 10 | IEEE T ENERGY CONVER | 40 |
| 序號(hào) | 被他刊引用情況 | 引用次數(shù) |
| 1 | INT J APPL ELECTROM | 331 |
| 2 | IEEE ACCESS | 55 |
| 3 | IEEE T MAGN | 43 |
| 4 | SENSORS-BASEL | 24 |
| 5 | PHYSICA A | 23 |
| 6 | AIP ADV | 20 |
| 7 | ENERGIES | 18 |
| 8 | J MAGN MAGN MATER | 18 |
| 9 | SMART MATER STRUCT | 18 |
| 10 | APPL SCI-BASEL | 15 |
高引用文章
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