所屬分類: SCIE 期刊 物理與天體物理 中科院 4區(qū) JCR Q4
歐洲物理學(xué)雜志應(yīng)用物理學(xué)(國際簡稱EUR PHYS J-APPL PHYS,英文名稱European Physical Journal-applied Physics)是一本未開放獲取(OA)國際期刊,自1998年創(chuàng)刊以來,始終站在物理與天體物理研究的前沿。該期刊致力于發(fā)表在物理與天體物理領(lǐng)域各個方面達到最高科學(xué)標準和具有重要性的研究成果。全面反映該學(xué)科的發(fā)展趨勢,為物理與天體物理事業(yè)的進步提供了有力的支撐。期刊嚴格遵循職業(yè)道德標準,對于任何形式的抄襲行為,無論是文字還是圖形,一旦查實,均可能導(dǎo)致稿件被拒絕。
在過去幾年中,該期刊保持了穩(wěn)定的發(fā)文量和綜述量,具體數(shù)據(jù)如下:
2014年:發(fā)表文章174篇、2015年:發(fā)表文章152篇、2016年:發(fā)表文章116篇、2017年:發(fā)表文章104篇、2018年:發(fā)表文章85篇、2019年:發(fā)表文章64篇、2020年:發(fā)表文章124篇、2021年:發(fā)表文章74篇、2022年:發(fā)表文章90篇、2023年:發(fā)表文章64篇。這些數(shù)據(jù)反映了期刊在全球物理與天體物理領(lǐng)域的影響力和活躍度,同時也展示了其作為學(xué)術(shù)界和工業(yè)界研究人員首選資源的地位。《European Physical Journal-applied Physics》將繼續(xù)致力于推動物理與天體物理領(lǐng)域的知識傳播和科學(xué)進步,為全球物理與天體物理問題的解決貢獻力量。
按JIF指標學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
學(xué)科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q4 | 162 / 179 |
9.8% |
按JCI指標學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
學(xué)科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q4 | 155 / 179 |
13.69% |
Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學(xué)科 | 小類學(xué)科 |
否 | 否 | 物理與天體物理 4區(qū) |
PHYSICS, APPLIED
物理:應(yīng)用
4區(qū)
|
CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore 排名 | ||||||||||||||||
1.9 | 0.209 | 0.361 |
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影響因子:指某一期刊的文章在特定年份或時期被引用的頻率,是衡量學(xué)術(shù)期刊影響力的一個重要指標。影響因子越高,代表著期刊的影響力越大 。
CiteScore:該值越高,代表該期刊的論文受到更多其他學(xué)者的引用,因此該期刊的影響力也越高。
自引率:是衡量期刊質(zhì)量和影響力的重要指標之一。通過計算期刊被自身引用的次數(shù)與總被引次數(shù)的比例,可以反映期刊對于自身研究內(nèi)容的重視程度以及內(nèi)部引用的情況。
年發(fā)文量:是衡量期刊活躍度和研究產(chǎn)出能力的重要指標,年發(fā)文量較多的期刊可能擁有更廣泛的讀者群體和更高的學(xué)術(shù)聲譽,從而吸引更多的優(yōu)質(zhì)稿件。
序號 | 引用他刊情況 | 引用次數(shù) |
1 | APPL PHYS LETT | 100 |
2 | J APPL PHYS | 92 |
3 | PHYS REV B | 91 |
4 | PHYS REV LETT | 64 |
5 | EUR PHYS J-APPL PHYS | 51 |
6 | THIN SOLID FILMS | 43 |
7 | APPL SURF SCI | 33 |
8 | J PHYS D APPL PHYS | 28 |
9 | J PHYS CHEM C | 21 |
10 | NUCL INSTRUM METH B | 19 |
序號 | 被他刊引用情況 | 引用次數(shù) |
1 | EUR PHYS J-APPL PHYS | 51 |
2 | MATER RES EXPRESS | 35 |
3 | J MATER SCI-MATER EL | 32 |
4 | J PHYS D APPL PHYS | 30 |
5 | J APPL PHYS | 23 |
6 | OPTIK | 23 |
7 | PLASMA SOURCES SCI T | 23 |
8 | APPL PHYS A-MATER | 20 |
9 | IEEE T PLASMA SCI | 18 |
10 | PLASMA CHEM PLASMA P | 18 |