等離子源科技
等離子源科技雜志簡介
- 出版商：IOP Publishing Ltd.
- 出版語言：English
- TOP期刊：是
- 出版地區：ENGLAND
- 是否預警：否
- 是否OA：未開放
- 出版周期：Bimonthly
- 出版年份：1992
- 中文名稱：等離子源科技
- 是否OA：未開放
等離子源科技（國際簡稱PLASMA SOURCES SCI T，英文名稱Plasma Sources Science & Technology）是一本未開放獲取（OA）國際期刊，自1992年創刊以來，始終站在物理與天體物理研究的前沿。該期刊致力于發表在物理與天體物理領域各個方面達到最高科學標準和具有重要性的研究成果。全面反映該學科的發展趨勢，為物理與天體物理事業的進步提供了有力的支撐。期刊嚴格遵循職業道德標準，對于任何形式的抄襲行為，無論是文字還是圖形，一旦查實，均可能導致稿件被拒絕。
近年來，來自USA、CHINA MAINLAND、GERMANY (FED REP GER)、France、Russia、Netherlands、Japan、Czech Republic、England、Italy等國家和地區的研究者在《Plasma Sources Science & Technology》上發表了大量的高質量文章。該期刊內容豐富，包括原創研究、綜述文章、專題觀點、論文預覽、專家意見等多種類型，旨在為全球該領域研究者提供廣泛的學術交流平臺和靈感來源。
在過去幾年中，該期刊保持了穩定的發文量和綜述量，具體數據如下：
2014年：發表文章187篇、2015年：發表文章220篇、2016年：發表文章190篇、2017年：發表文章193篇、2018年：發表文章258篇、2019年：發表文章232篇、2020年：發表文章299篇、2021年：發表文章273篇、2022年：發表文章295篇、2023年：發表文章242篇。這些數據反映了期刊在全球物理與天體物理領域的影響力和活躍度，同時也展示了其作為學術界和工業界研究人員首選資源的地位。《Plasma Sources Science & Technology》將繼續致力于推動物理與天體物理領域的知識傳播和科學進步，為全球物理與天體物理問題的解決貢獻力量。
期刊指數
- 影響因子：3.3
- 文章自引率：0.3157...
- Gold OA文章占比：26.54%
- CiteScore：7.1
- 年發文量：242
- 開源占比：0.1931
- SJR指數：0.771
- H-index：94
- SNIP指數：1.373
- OA被引用占比：0.1047...
- 出版國人文章占比：0.1
WOS期刊SCI分區（2023-2024年最新版）
| 按JIF指標學科分區 | 收錄子集 | 分區 | 排名 | 百分位 |
| 學科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q1 | 6 / 40 |
86.3% |
| 按JCI指標學科分區 | 收錄子集 | 分區 | 排名 | 百分位 |
| 學科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q1 | 6 / 40 |
86.25% |
中科院分區表
中科院SCI期刊分區 2023年12月升級版
| Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學科 | 小類學科 |
| 否 | 否 | 物理與天體物理 2區 |
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體
1區
|
CiteScore（2024年最新版）
CiteScore 排名
| CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore 排名 | ||||||||
| 7.1 | 0.771 | 1.373 |
|
學術指標分析
影響因子和CiteScore
自引率
影響因子：指某一期刊的文章在特定年份或時期被引用的頻率，是衡量學術期刊影響力的一個重要指標。影響因子越高，代表著期刊的影響力越大 。
CiteScore：該值越高，代表該期刊的論文受到更多其他學者的引用，因此該期刊的影響力也越高。
自引率：是衡量期刊質量和影響力的重要指標之一。通過計算期刊被自身引用的次數與總被引次數的比例，可以反映期刊對于自身研究內容的重視程度以及內部引用的情況。
年發文量：是衡量期刊活躍度和研究產出能力的重要指標，年發文量較多的期刊可能擁有更廣泛的讀者群體和更高的學術聲譽，從而吸引更多的優質稿件。
期刊互引關系
| 序號 | 引用他刊情況 | 引用次數 |
| 1 | PLASMA SOURCES SCI T | 1576 |
| 2 | J PHYS D APPL PHYS | 1276 |
| 3 | J APPL PHYS | 702 |
| 4 | PHYS PLASMAS | 595 |
| 5 | APPL PHYS LETT | 335 |
| 6 | IEEE T PLASMA SCI | 296 |
| 7 | J CHEM PHYS | 236 |
| 8 | PHYS REV A | 227 |
| 9 | PHYS REV LETT | 189 |
| 10 | PHYS REV E | 167 |
| 序號 | 被他刊引用情況 | 引用次數 |
| 1 | PLASMA SOURCES SCI T | 1576 |
| 2 | J PHYS D APPL PHYS | 745 |
| 3 | PHYS PLASMAS | 733 |
| 4 | IEEE T PLASMA SCI | 427 |
| 5 | J APPL PHYS | 370 |
| 6 | PLASMA CHEM PLASMA P | 186 |
| 7 | JPN J APPL PHYS | 171 |
| 8 | PLASMA PROCESS POLYM | 165 |
| 9 | PLASMA SCI TECHNOL | 148 |
| 10 | VACUUM | 110 |
高引用文章
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- The importance of thermal dissociation in CO2 microwave discharges investigated by power pulsing and rotational Raman scattering引用次數：20
- Comparison of six simulation codes for positive streamers in air引用次數：19
- The LisbOn KInetics Boltzmann solver引用次數：17
- Energetic ions during plasma-enhanced atomic layer deposition and their role in tailoring material properties引用次數：17
- Foundations of low-temperature plasma enhanced materials synthesis and etching引用次數：17
- Foundations of High-Pressure Thermal Plasmas引用次數：16
- Kinetic study of low-temperature CO2 plasmas under non-equilibrium conditions. I. Relaxation of vibrational energy引用次數：16
- Atmospheric-pressure pulsed plasma actuators for flow control: shock wave and vortex characteristics引用次數：15
- Modelling the helium plasma jet delivery of reactive species into a 3D cancer tumour引用次數：14
